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  • 低温多晶硅显示技术 - 书籍详细信息
  • 查看同类图书:科学技术»工业技术»自动化技术、计算技术»低温多晶硅显示技术
  • 低温多晶硅显示技术

  • 【作 者】:陈志强刘晓彦
  • 【丛编项】:
  • 【装帧项】:平装 16开 / 310
  • 【出版项】:科学出版社 / 2006-4-1
  • 【ISBN号】:9787030169341 / 7030169344
  • 【原书定价】:¥38.00 有9家书店打折销售 
  • 【主题词】:工业技术-一般工业技术-综合
  • 【图书简介】
      LTPS是新一代薄膜晶体管液晶显示器(TFT-LCD)的制造工艺,与传统的非晶硅显示器最大差异在于LTPS反应速度较快,且有高亮度、高清晰度等优点。 本书共分三部分,第1部分介绍LTPS结构,第2部分介绍低温多晶硅技术开发与现状,第3部分介绍新一代显示技术开发。本书以简明易懂的语言将低温多晶硅特性与结构及应用完整地呈现在读者面前,内容包括低温多晶硅的特性与结构,低温多晶硅的可靠性,LTPS氧化层技术,LTPS多晶硅成膜技术,LTPS离子注入技术,低温多晶硅面板开发现况,低功耗显示技术,有源有机电致发光显示技术等。 本书可作为相关专业领域的研究开发人员、技术人员的参考用书,亦可供大学相关专业高年级学生及研究生参考。-读书网|DuShu.com
  • 【本书目录】
    第1章 绪论??低温多晶硅的时代
     1.1 概述
     1.2 平面显示器的分类
     1.3 低温多晶硅开发历史
     1.4 低温多晶硅的优势
      1.4.1 高清晰度与高开口率
      1.4.2 电磁干扰
      1.4.3 周边驱动IC
      1.4.4 低功率消耗
      1.4.5 窄框化与高集成度
    第2章 低温多晶硅特性与结构
     2.1 概述
     2.2 LTPS薄膜晶体管的特性
      2.2.1 特性曲线
      2.2.2 等效载流子迁移率
      2.2.3 阈值电压
      2.2.4 亚阈值摆幅
      2.2.5 漏电流
     2.3 低温多晶硅像素的结构
      2.3.1 八次光刻的倒栅工艺流程
      2.3.2 九次光刻的顶栅工艺流程
      2.3.3 五次光刻的顶栅工艺流程
      2.3.4 内建电路架构
    第3章 低温多晶硅的可靠性
     3.1 概述
     3.2 LTPS器件可靠性
      3.2.1 热载流子效应
      3.2.2 动态可靠性测试
      3.2.3 短沟道效应
      3.2.4 窄沟道效应
      3.2.5 驼峰效应
      3.2.6 扭曲效应
      3.2.7 自发热效应
      3.2.8 低频噪声特性
      3.2.9 辐射效应
     3.3 LTPS阵列可靠性
      3.3.1 静电泄放伤害
      3.3.2 环境与工艺过程中的ESD防护
      3.3.3 阵列与内建电路的防护
     3.4 阵列测试
      3.4.1 接触式测试
      3.4.2 非接触式测试
      3.4.3 阵列修补
    第4章 LTPS氧化层技术
     4.1 概述
     4.2 玻璃基板
      4.2.1 玻璃种类
      4.2.2 玻璃特性
     4.3 缓冲层
     4.4 栅绝缘层
      4.4.1 氧化硅层
      4.4.2 氮化硅层
      4.4.3 其他栅氧化层
      4.4.4 表面粗糙度
      4.4.5 清洗技术
     4.5 层间绝缘层
      4.5.1 上部透明导电电极结构
      4.5.2 平坦化工艺
      4.5.3 氢化工艺
    第5章 LTPS多晶硅成膜技术
    ……
    第6章 LTPS离子注入技术
    第7章 低温多晶硅面板开发现况
    第8章 低功耗显示技术
    第9章 大面积低温多晶硅的挑战
    第10章 有源有机电致发光显示技术
    第11章 可弯曲低温多晶硅显示技术
    第12章 低温多晶硅的未来
    附录 半导体设备暨材料协会(SEMI)标准
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