微纳米加工技术及其应用（第三版）

定　价：¥79.00

作　者：	崔铮著
出版社：	高等教育出版社
丛编项：
标　签：	工业技术一般工业技术

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ISBN：	9787040369748	出版时间：	2013-04-01	包装：	精装
开本：	16开	页数：	544	字数：

内容简介

　　《微纳米加工技术及其应用（第3版）》集作者多年来的实践经验与研究成果，并结合近年来国际上的最新发展，综合介绍微纳米加工技术的基础，包括光学曝光技术、电子束曝光技术、聚焦离子束加工技术、扫描探针加工技术、微纳米尺度的复制技术、各种沉积法与刻蚀法图形转移技术、间接纳米加工技术与自组装纳米加工技术。对各种加工技术的介绍着重讲清原理，列举基本的工艺步骤，说明各种工艺条件的由来，并注意给出典型工艺参数；充分分析各种技术的优缺点及在应用过程中的注意事项；以大量图表与实例说明各种加工方法，避免烦琐的数学分析；并以专门一章介绍微纳米加工技术在现代高新技术领域的应用，包括超大规模集成电路技术、纳米电子技术、光电子技术、高密度磁存储技术、微机电系统技术、生物芯片技术和纳米技术。通过应用实例说明现代高新技术与微纳米加工技术的不可分割的关系，并演示如何灵活应用微纳米加工技术来推动这些领域的技术进步。与国内外同类出版物的相比，《微纳米加工技术及其应用（第3版）》的显著特点是将用于超大规模集成电路生产、用于微机电系统制造与用于纳米技术研究的微纳米加工技术综合介绍，并加以比较。首次将微纳米加工归纳为平面工艺、探针工艺和模型工艺三种主要类型，突出了微纳米加工与传统加工技术的不同之处。全书既注重基础知识又兼顾微纳米加工领域近年来的最新进展，并列举大量参考文献与互联网链接网址，供进一步发掘详细信息与深入研究。因此不论是对初次涉足这一领域的大专院校的本科生或研究生，还是对已经有一定工作经验的专业科技人员，都具有很好的参考价值。

作者简介

　　崔铮，东南大学（原南京工学院）本科毕业（1981年），并获该校硕士（1984年）和博士（1988年）学位。1989年受英国科学与工程研究委员会访问研究基金全额资助（SERC Visiting Fellowship），到英国剑桥大学微电子研究中心做博士后研究。1993年到英国卢瑟福国家实验室微结构中心做高级研究员。1999年起任英国卢瑟福国家实验室微结构中心首席科学家（Principal Scientist）以及微系统技术中心负责人（Group Leader）。在英国工作的20年中，先后参加和主持各种科研项目25项，其中lO项为项目首席科学家。2004年当选为英国工程技术学会（IET）会士（Fellow）。先后独立与合作发表学术论文190余篇。2005年出版中文专著《微纳米加工技术及其应用》（高等教育出版社），2006年出版该书的英文版《Micro- Nanofabrication Technologies and Applications》（高等教育出版社，Springer），2008年出版英文专著《Nanofabrication：Principles. Capabilities and Limits》（Springer），2009年出版《微纳米加工技术及其应用》（第二版）（高等教育出版社）。自1994年以来开始与国内开展合作，先后受聘为国内多家科研单位与大学的客座研究员、客座教授。2002年受聘为中国科学院海外评审专家。2004年获中国科学院海外杰出学者（B类）基金。2007年参加中国科学院物理研究所纳米电子材料与器件海外合作团队。2009年9月入选中共中央组织部第二批“千人计划”（创新类），10月全职回国到中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所工作，创立了国内首个印刷电子技术研究中心。2011年1月创立苏州纳格光电科技有限公司，致力于将印刷电子技术推向产业化。2012年3月，领衔印刷电子技术研究中心科研团队集体编著了中国第一本印刷电子学方面的专著《印刷电子学：材料、技术及其应用》（高等教育出版社）。目前担任中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所印刷电子学研究部主任。

图书目录

第1章绪论
1.1 微纳米技术与微纳米加工技术
1.2 微纳米加工的基本过程与分类
1.3 本书的内容与结构
参考文献
第2章光学曝光技术
2.1 引言
2.2 光学曝光方式与原理
2.2.1 掩模对准式曝光
2.2.2 投影式曝光
2.3 光学曝光的工艺过程
2.4 光刻胶的特性
2.4.1 光刻胶的一般特性
2.4.2 正型光刻胶与负型光刻胶的比较
2.4.3 化学放大胶
2.4.4 特殊光刻胶
2.5 光学掩模的设计与制作
2.6 短波长曝光技术
2.6.1 深紫外曝光技术
2.6.2 极紫外曝光技术
2.6.3 X射线曝光技术
2.7 大数值孔径与浸没式曝光技术
2.8 光学曝光分辨率增强技术
2.8.1 离轴照明技术
2.8.2 空间滤波技术
2.8.3 移相掩模技术
2.8.4 光学邻近效应校正技术
2.8.5 面向制造的掩模设计技术
2.8.6 光刻胶及其工艺技术
2.8.7 二重曝光与加工技术
2.9 光学曝光的计算机模拟技术
2.9.1 部分相干光成像理论
2.9.2 计算机模拟软件COMPARE
2.9.3 光学曝光质量的比较
2.10 其他光学曝光技术
2.10.1 近场光学曝光技术
2.10.2 干涉光学曝光技术
2.10.3 无掩模光学曝光技术
2.10.4 激光三维微成型技术
2.10.5 灰度曝光技术
2.11 厚胶曝光技术
2.11.1 传统光刻胶
2.11.2 SU-8光刻胶
2.12 LIGA技术
2.12.1 用于LIGA的X射线光源
2.12.2 X射线LIGA掩模
2.12.3 用于X射线LIGA的厚胶及其工艺
2.12.4 影响X射线LIGA图形精度的因素
参考文献
第3章电子束曝光技术
3.1 引言
3.2 电子光学原理
3.2.1 电子透镜
3.2.2 电子枪
3.2.3 电子光学像差
3.3 电子束曝光系统
3.4 电子束曝光图形的设计与数据格式
3.4.1 设计中的注意事项
3.4.2 中间数据格式
3.4.3 Auto CAD数据格式
……
第4章聚焦离子束加工技术
第5章扫描探针加工技术
第6章复制技术
第7章沉积法图形转移技术
第8章刻蚀法图形转移技术
第9章间接纳米加工技术
第10章自组装纳米加工技术
第11章微纳米加工技术的应用