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技术物理基础(下册)

技术物理基础(下册)

定 价:¥8.90

作 者: 黄伟民,吴伯善编
出版社: 高等教育出版社
丛编项:
标 签: 暂缺

ISBN: 9787040095975 出版时间: 2001-01-01 包装: 平装
开本: 26cm 页数: 137 字数:  

内容简介

  《技术物理基础(下册)》是根据全国五年制高等职业教育公共课开发指导委员会2000年审定的《<技术物理基础>课程基本要求》编写而成的。教材精选物理学的基本概念和规律,注意联系工程技术和社会生活实际,适当展示物理与高新技术及环境保护的关联,努力强调物理学所体现的科学精神和科学方法。本教材的主要特点是宽而浅,教材中增加了不少密切联系技术应用的知识点,并充分注意了初中后学生的整体知识水平、降低了理论分析和练习题的难度。全书分上、下两册,下册包括恒定电流,电场和磁场,电磁作用力,电磁感应,光的反射、折射和吸收,光的波动性,光的发射和激光,物理效应和等离子体,物理量的工程测量。《技术物理基础(下册)》可作为五年制高等职业教育的物理教材,也可供中学教师以及初、中级技术人员参考。

作者简介

暂缺《技术物理基础(下册)》作者简介

图书目录

第八章 恒定电流
8.1 电阻定律 欧姆定律
8.2 电阻的连接
8.3 电功 电功率 焦耳定律
8.4 电源电动势
8.5 全电路欧姆定律
第九章 电场和磁场
……
第十章 电磁作用力
第十一章 电磁感应
第十二章 光的反射、折射和吸收
第十三章 光的波动性
第十四章 光的发射 激光
第十五章 物理效应 等离子体
第十六章 物理量的工程测量
附录

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